《表1 MTS参与反应的相关键能》

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《多层沉积SiC涂层与石墨基体的界面表征》

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从参与工艺过程的化学反应式（2）、（4）、（5）可见，H2参与了多步反应。反应的最终产物不仅有SiC，还有可能存在Si或C的单质。从式（1）和表1可见，进行反应的关键是MTS分子中键能较小的Si—C键的断裂，即其决定了SiC的沉积速率[19]。结合反应键能和式（4）、（5）可知，增加H2有助于反应向右进行，即促进Si的生成。黄浩等人的研究发现，H2/CH3SiCl3的物质的量之比为5︰3时最佳[15]。另外，MTS裂解的反应平衡常数为：