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第一章 薄层电阻测试结构及其应用1

§1.1薄层电阻测试结构的基本原理1

目录1

§1.2四端十字形测试结构6

§1.3薄层电阻测试结构的测试方法14

§1.4六种薄层电阻测试结构测量结果的比较16

§1.5薄层电阻测试结构的应用实例23

§1.6测量体电阻率的平面四探针测试结构28

§2.1掩模套准误差的分析36

第二章 掩模套准测试结构36

§2.2掩模套准测试结构42

§2.3掩模套准误差测试实例47

第三章 金属—半导体接触电阻测试结构56

§3.1接触电阻和接触电阻率56

§3.2接触电阻测试结构58

§3.3平面接触和传输线模型61

§3.4铝—硅和铝—多晶硅接触电阻测量结果一例69

§3.5单窗口测试结构在工艺控制中的应用实例74

§4.1用于工艺分析及评价的随机缺陷测试结构79

第四章 随机缺陷测试结构79

§4.2硅栅CMOS/SOS工艺的分析和评价82

§4.3最佳设计规则90

§4.4类存储器随机缺陷测试结构94

第五章 MIS结构在半导体工艺检测中的应用100

§5.1MIS结构表面场效应简述100

§5.2MIS结构在工艺检测中的应用104

§5.3MIS结构C-V技术中应注意的几个问题114

第六章 集成栅控二极管测试结构122

§6.1栅控二极管122

§6.2集成栅控二极管测试结构129

第七章 栅控晶体管和四极晶体管测试结构138

§7.1栅控晶体管的特性分析138

§7.2栅控晶体管试验实例141

§7.3用四极晶体管区分表面复合和体内复合147

§7.4用四极管测量发射区下基区的薄层电阻及预示器件的可靠性152

第八章 测试结构参数的自动测量系统156

§8.1四探针二方位自动测试156

§8.2探卡与测试图形压点的标准化158

§8.3测试图形参数自动测量的计算机控制164

附录168