本书系统地介绍了硅集成电路制造技术中的基础工艺。书中内容包括硅衬底与清洗﹑氧化﹑扩散﹑离子注入﹑外延﹑化学气相淀积、光刻与腐蚀/刻蚀﹑金属化与多层布线﹑表面钝化以及工艺集成制造技术。书中1~10章介绍了各种工艺,建立了工艺规范并确定了其规范号。11~13章将介绍CMOS和LV/HV兼容CMOS﹑BiCMOS和LV/HV兼容BiCMOS以及BCD工艺集成制造技术,给出部分实用简明工艺制程,并与工艺制程的剖面结构相对应。1~10章为后面11~13章的各种工艺集成制造技术奠定了基础。

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