本书全面系统地介绍了半导体薄膜的各种制备技术及其相关的物理基础。全书共分十章。第一章概述了真空技术，第二至第八章分别介绍了蒸发、溅射、化学气相沉积等各种半导体薄膜的沉积技术，第九章介绍了半导体超晶格等的基本概念和理论，第十章介绍了典型薄膜半导体器件的制备技术。

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