《表3 电絮凝实验结果：半导体行业含氟废水处理探讨》

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《半导体行业含氟废水处理探讨》

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根据现有系统源水含F-浓度<500mg/L计，采用两组氟处理系统并联运行的模式下，出水口的氟离子浓度约为40mg/L。根据目前执行的《半导体行业污染物排放标准》（DB31/445-2006），氟化物排放限值为20mg/L，出水口浓度高于氟化物的排放限值，所以拟采用电絮凝的方式将沉淀后的水中的氟离子浓度降至排放限值以下。电絮凝烧杯实验中正、负电极分别采用高纯石墨板和高纯钛板，电解反应时间为30min。电絮凝实验装置示意图见图2，电解反应前后的各参数（pH值、温度、氟离子浓度）的变化见表3。