《表3 半导体激光照射后温度变化》
810nm半导体激光输出功率设置0.6W时,激光照射种植体30s后表面温度为44.8±0.2℃;能量参数为1.0W,表面温度达到47.7±0.3℃;能量设置提高到2.0W,种植体表面温度77.9±0.4℃。在低能量设置下,增加10℃骨损伤温度阈值用时48.0±0.3s,而提高能量设置,1.0w和2.0w下种植体表面温度增加10℃的时间分别为29.9±0.2s和7.9±0.3s(表3)。
图表编号 | XD0083858700 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.07.20 |
作者 | 梁辰、赖穗萍、白雨豪、李文博、赵颖 |
绘制单位 | 首都医科大学宣武医院、首都医科大学宣武医院、首都医科大学宣武医院、首都医科大学宣武医院、首都医科大学宣武医院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |