《表2 射野Y方向边界在二维电离室矩阵中改变时对应的变化量和通过率分析》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《二维电离室矩阵中射野边界位置对调强验证Gamma通过率的影响》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

*表示射野边界位于或接近电离室腔体中心位置；#表示射野边界位于或接近二维矩阵电离室腔外间隙中心位置

（10×10） cm2射野中心在二维电离室矩阵等中心处时如图1所示，由图1可见射野边界靠近电离室腔体中心。两种方式下分别计算出射野边界每移动0.1 cm时射野边长改变量（全部取正值），共16组。在标准3%/3 mm下，γ分析不通过的地方集中在射野边界，每个边上不通过的电离室个数即为对应边的不通过点数（数值见表1、表2）。