《表3 POM反应 (10 h, 20 h) 后催化剂表面积炭分析》

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《Ni/SiO_2在甲烷部分氧化反应中的稳定性:W修饰的影响》

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这些未还原完全的表面Ni物种将有利于表面积炭的消除。我们采用元素分析（EL）技术对反应后催化剂表面积炭情况进行了分析。如表3所示，W/Ni从0，0.01，0.03，0.05，0.07，增至0.10时，9NiWx/SiO2催化剂表面积炭量逐步降低（13.1%，8.2%，7.2%，5.2%，0，0），特别是W/Ni=0.05和0.07催化剂，在POM反应10 h，甚至20 h后，没有检测到表面积炭。这一事实得到反应后催化剂的XRD测量结果（图4）的进一步佐证，即，位于26°处归属于石墨炭的衍射峰24，随催化剂中引入的W含量增加，呈现出强度递减之势，W/Ni=0.07时，反应后催化剂XRD谱已未见石墨炭特征峰出现。