《表2 全球晶体管领域专利IPC分布》

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《晶体管产业专利预警分析》

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IPC技术领域反映了专利申请的主要方向，通过IPC分类可以判断某项技术的技术研发重点.从表2可以看出，全球晶体管专利IPC排名前十位的主要技术领域分布在晶体管与集成电路、半导体相关的领域，其中，晶体管（H01L21/331）的专利数量超过4万件，是目前晶体管产业的主要研发领域；半导体器件（H01L33/00）和场效应管（H01L29/78）的专利申请占比基本相同，是晶体管产业应用于集成电路的专利高产出区域；薄膜晶体管领域（H01L29/786）和双极结型晶体管领域（H01L29/73）占比均超过10%，属于潜在应用价值较大的领域.