《表4 不同煅烧温度制备的In/H-Beta的比表面积》

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《甲烷选择性催化还原NO中In/H-Beta的制备及优化》

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而根据表4可知，随着In/H-Beta催化剂煅烧温度的升高，催化剂的比表面积下降，影响了活性组分在In/H-Beta催化剂表面上的分散性。低温煅烧的催化剂具有较大比表面，活性组分分散较均匀，而高温煅烧的催化剂具有较小的比表面，且高温煅烧还可能使活性物种的价态发生改变。500℃煅烧的In/H-Beta具有较大比表面，这可能是其活性较好的原因。