《表3 现场电子产品腐蚀生成物成分元素百分比》
针对3次试验的铜片的生成物利用EDX进行元素分析,分析结果能谱图如图6所示,元素百分比如表2所示,其中图6(a)为纯水+硫磺粉,通过能谱分析确认,铜片生成物包含Cu、S;图6(b)为NaCl饱和溶液+硫磺粉,通过能谱分析确认,铜片生产物包含Cu、S、Cl;图6(c)为NaCl饱和溶液+KNO3饱和溶液+硫磺粉,通过能谱分析确认,铜片生产物包含Cu、S、Cl;并且与现场电子产品的腐蚀生成物图7能谱和元素百分比表3进行对比确认,在湿硫磺蒸汽实验装置内加入NaCl饱和溶液和KNO3饱和溶液的生成物成分更接近现场腐蚀生成物的成分构成。说明在湿硫磺蒸汽法进行硫化腐蚀分析时,加入盐溶液可以更好地模拟现场的腐蚀环境。
图表编号 | XD0064448100 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.05.25 |
作者 | 戴晨阳、王键均、张盼盼、乐利峰 |
绘制单位 | 浙江中控技术股份有限公司、浙江中控技术股份有限公司、浙江中控技术股份有限公司、浙江中控技术股份有限公司 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |