《表3 细胞在不同基质上培养后的OD值》

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《再生丝素蛋白/脱细胞真皮基质共混纳米纤维膜的制备及其性能》

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表3示出细胞C2C12在共混纳米纤维膜（RSF与ADM质量比为9∶1）及空白对照组分别培养1、3、5、7 d后的OD值。可以看出，随着时间的延长，RSF/ADM共混纳米纤维膜及空白对照组的OD值均逐步增大。其中，第1天共混纳米纤维膜的OD值略低于空白对照组，但差异性并不显著（P>0.05）；第5、7天共混纳米纤维膜与空白对照组的OD值基本接近，差异性不显著（P>0.05）；第3天共混纳米纤维膜的OD值明显高于对照组，差异性显著（P<0.01）。由此说明，静电纺丝过程中所使用的有机溶剂甲酸没有残留，C2C12细胞能够在RSF/ADM共混纳米纤维膜上正常生长、增殖，所制得的RSF/ADM共混纳米纤维膜没有细胞毒性，生物相容性较好。