《表2 基础电解液、二元、三元复合添加剂LSV扫描的峰电压和峰电流》

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《镍电解质溶液中复合添加剂对电解沉积镍的影响》

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如图6为基础电解液、二元和三元复合添加剂的LSV扫描曲线图。图11中基础电解液、二元和三元复合添加剂LSV扫描的峰电压Ep和峰电流Ip见表2。从表2可知，对苯二甲醛-焦性没食子酸复合添加剂电解液的峰电压最小，说明此二元复合添加剂电解液中镍离子的还原电压最低，镍离子还原最难，要在此条件下还原沉积镍，需要更高的电压；三元复合添加剂电解液的峰电流最小，说明此三元复合添加剂电解液中镍离子的还原电流最低，镍离子还原最少，沉积速率最小，易得到平整且晶粒致密的镀层。综合上考虑，我们要得到平整且晶粒致密的镀层，选择峰电流最小的为佳。