《表3 不同工艺条件下MoS2涂层的力学性能》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《脉冲磁控溅射MoS_2涂层的组织结构及摩擦学性能》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

图4为采用纳米力学测试系统获得的各涂层的负载-位移曲线，曲线反映了加载过程中涂层中的形变过程。偏压为600 V制备的涂层，由于结构缺陷较多，致密性差，常规位错运动起主要作用，因此弹性模量较小，为40.10 GPa，硬度也最低，仅为1.43 GPa（见表3）；继续增大脉冲偏压至800 V，晶粒尺寸减小，根据Hall-Petch效应[14]可知，晶粒细化使得晶界面积增多，导致位错滑移空间减小，每个晶粒中塞积的位错减少，表现出较高的韧性，弹性模量提高至61.28 GPa，同时，涂层在生长过程中的残余应力也由拉应力转变为压应力，使得涂层更为致密，硬度也提高至4.64 GPa。