《表2 膜基界面处原子的电荷密度Tab.2 Calculated charge density at the atomic interface》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《金属元素Co、Fe、Cu、Ti对孕镶金刚石基底CVD金刚石涂层膜基界面结合强度的影响》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

通过界面处电荷密度图能分析孕镶金刚石基底与CVD金刚石涂层膜基界面在结构最稳定情况下原子与原子之间的电荷密度分配及成键方式[20]。图5分别展示了不同金属元素掺杂的孕镶金刚石基底CVD金刚石涂层模型的电荷密度图，表2展示了各模型界面附近的电荷密度仿真结果。