《表4 进一步氢气还原处理前后NiH/Hβ催化剂的催化活性对比》

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《NiH/Hβ催化剂的制备及催化正己烷异构化性能》

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Treatment conditions:p=2 MPa；Reduction temperature 300℃；Reduction time 2h

进一步对已制备的NiH/Hβ催化剂进行H2还原处理，处理条件为:H2压力2 MPa，还原温度300℃，还原时间2h。在相同条件下，对进一步还原处理前后的NiH/Hβ催化剂催化正己烷异构化活性进行对比，结果如表4所示。表4结果表明，进一步H2还原处理未能再提高NiH/Hβ催化剂的活性，这说明NiH本身能够有效地催化异构化过程中的加氢/脱氢反应。