《表1 CODEV中鬼像路径信息表》
研究鬼像首先要确定会产生严重鬼像的光学工作面.将设计好的光学系统在CodeV中进行鬼像分析,找出DISC项较小时对应的光学表面(DISC项表示鬼像在像面的弥散斑半径).部分结果见表1,其中DBEF为鬼像系统后焦距,EFL为鬼像系统有效焦距.对于DISC较大的面,先不予考虑,因为这些光学表面产生的鬼像在像面的照度相对较低.
图表编号 | XD0032839900 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.01.01 |
作者 | 张苗苗、孟炳寰、韩琳、洪津 |
绘制单位 | 中国科学院安徽光学精密机械研究所、中国科学技术大学、中国科学院通用光学定标与表征技术重点实验室、中国科学院安徽光学精密机械研究所、中国科学院通用光学定标与表征技术重点实验室、中国科学院通用光学定标与表征技术重点实验室、中国科学院安徽光学精密机械研究所、中国科学院通用光学定标与表征技术重点实验室 |
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