《表2 反应单元腐蚀问题和措施》

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《C5/C6异构化装置的腐蚀与防护》

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异构化反应单元中，HCl的浓度在150mg·kg-1左右，如果有水进入将引起严重的化学腐蚀。异构化反应的热源来自反应加热器，反应加热器内漏导致加热蒸汽与反应介质交叉泄漏，反应器内HCl浓度高，则会引起HCl腐蚀。原料带水进入反应器与HCl接触生成盐酸，腐蚀反应器。阀门填料和法兰等密封点泄漏也会引起腐蚀。主要问题和处理措施见表2。