《表1 Ti W/316L SS和Ti Ta/316L SS的腐蚀电位和电流密度》
在2m V/s扫速下,测得的Ti W/316L SS和Ti Ta/316L SS动电位极化曲线如图6所示。由动电位极化曲线可知,Ti W/316L SS的腐蚀电位(?corr)约为-0.729V vs.MSE,Ti Ta/316L SS的?corr较Ti W/316L SS正移约151m V,与不锈钢基体相比[33],Ti W和Ti Ta膜的?corr分别正移了约32m V和183m V。对于Ti W/316L SS来说,当扫描电位较高时,其反应电流密度基本维持稳定。在0.19V vs.MSE测试电位下,由表1可知,Ti W/316L SS、Ti Ta/316L SS和316L SS[33]的腐蚀反应电流密度分别为40.7μA/cm2、0.78μA/cm2和17.3μA/cm2,表明Ti Ta膜的耐蚀性优于Ti W膜和不锈钢基体,其中的主要原因在于在测试电位下Ti Ta膜表面生成了耐蚀性更加优良的钝化膜,能够显著降低材料的维钝电流密度,对不锈钢基体起到保护作用。
图表编号 | XD00221647500 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.10.05 |
作者 | 石锟、王树博、李微微、谢晓峰、陈靖 |
绘制单位 | 清华大学核能与新能源技术研究院、清华大学核能与新能源技术研究院、清华大学核能与新能源技术研究院、清华大学核能与新能源技术研究院、清华大学核能与新能源技术研究院 |
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