《表1 实验工艺参数：直流偏压对不锈钢上纯铬涂层结构和性能的影响》

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《直流偏压对不锈钢上纯铬涂层结构和性能的影响》

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实验流程如下：抽真空至3.0 m Pa，通入纯度为99.99%通量为200 m L/min的Ar，真空室压强控制在4.0 Pa，打开钨灯丝，灯丝电流6 A，调节靶电流对靶材进行溅射清洗，清洗10 min；之后调节基体偏压分别为低偏压为-120 V、高偏压为-300 V对基体进行溅射清洗，两种清洗模式各清洗30 min，以去除基体表面的污染物。清洗结束后开始试验。硅片上沉积的涂层在观察截面时可以通过脆断的方式制样，不需要磨样与抛光，避免破坏截面形貌，因此在实验过程中腔体内加入硅片。具体实验工艺参数见表1。