《表1 Ta Si2/Mo Si2涂层喷涂工艺参数》

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《低压等离子喷涂TaSi_2/MoSi_2涂层组织结构及性能研究》

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本文选用高纯石墨作为基材，尺寸为Φ25mm×10mm，喷涂前对石墨基材进行吹砂粗化，然后用酒精进行超声处理。采用欧瑞康美科公司LPPS低压等离子喷涂设备进行试样制备，涂层厚度200～250μm。具体工艺参数见表1。