《表1 PS–PVD涂层喷涂工艺参数》
采用PS–PVD工艺分别在石墨和GH3128基材上沉积YSZ涂层。喷涂原料为欧瑞康美科(Oerlikon Metco)生产的ZrO2–(质量分数为6%~8%)Y2O3团聚粉体(Metco6700),粉体粒径为5~20μm。PS–PVD喷涂设备为瑞士Oerlikon Metco生产的O3CP喷枪、60CD型送粉器、ABB机械手和真空组元等构成的喷涂系统,喷涂参数如表1所示。粉体置入送粉器并将温度维持在50℃,防止粉体吸湿,影响送粉。在石墨基材表面喷涂时,喷枪对准试件中心,维持一定的喷涂距离,枪和样品台相对静止保持100~200s。设定等离子体焰流中心为喷涂斑点中心D=0mm,中心上部为“–”,下部为“+”,示意图如图1所示。喷涂后涂层可从石墨基材表面剥离。GH3128基材表面的涂层沉积工艺可参考文献[12]。
图表编号 | XD0052155000 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.02.01 |
作者 | 程泽飞、杨加胜、邵芳、赵华玉、钟兴华、庄寅、倪金星、陶顺衍 |
绘制单位 | 中国科学院上海硅酸盐研究所中国科学院特种无机涂层重点实验室、中国科学院大学材料与光电研究中心、中国科学院上海硅酸盐研究所中国科学院特种无机涂层重点实验室、中国科学院大学材料与光电研究中心、中国科学院上海硅酸盐研究所中国科学院特种无机涂层重点实验室、中国科学院大学材料与光电研究中心、中国科学院上海硅酸盐研究所中国科学院特种无机涂层重点实验室、中国科学院大学材料与光电研究中心、中国科学院上海硅酸盐研究所中国科学院特种无机涂层重点实验室、中国科学院大学材料与光电研究中心、中国科学院上海硅酸盐研究所中国科学院特种 |
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