《表6 冷喷涂纯Ti沉积层及热处理后的孔隙率[2]》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《热处理在冷喷涂增材制造中的应用》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

Huang[2]等研究了热处理对冷喷涂Ti沉积层力学性能的影响，实验采用PCS-1000装置喷涂，推进气体采用氮气，原料粉末为球形纯Ti粉，平均粒径30μm。喷涂参数：气体压力3 MPa、温度900℃、喷距30mm、送粉速率60g/min。采用的热处理制度分别为400℃、600℃、800℃及1000℃下在氩气中恒温4 h后随炉冷却至室温，随后通过拉伸试验得到样品的应力-应变曲线，如图14所示。块体Ti的抗拉强度>400MPa，延伸率>40%，冷喷涂Ti沉积层抗拉强度<200MPa，延伸率<0.5%。1000℃/4h热处理后沉积层力学性能并没有显著改善，这与冷喷涂Ti沉积层中存在的大量孔隙相关。用图像法测定Ti沉积层的孔隙率（表6)，1000℃热处理后孔隙率仍高达7.6%，故冷喷涂纯Ti沉积层中的裂纹和孔隙等缺陷是制约其力学性能提高的关键因素。