《表1 不同制备2D MOF纳米片条件及形貌特点》
通过比较上述各种方法不难发现,自上而下的剥离法得到的MOF纳米片,由于物理[11-14]、化学[16]剥离所产生的横切力不规则,得到的MOF纳米片的面积、形貌和厚度通常也不均匀。而使用自底向上的合成方法,可以合成出厚度可控、横向尺寸较大的MOF纳米片。在这里,将每种方法合成出的纳米片性质进行比较,表1列出了不同制备方法所得的纳米片所需的条件和形貌特点[15]。
图表编号 | XD00193266600 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.12.01 |
作者 | 章家立、欧柯汝、张才松、项海飞、李秀平 |
绘制单位 | 华东交通大学材料科学与工程学院、华东交通大学材料科学与工程学院、华东交通大学材料科学与工程学院、华东交通大学材料科学与工程学院、华东交通大学材料科学与工程学院 |
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