《表2 Ni-Si C复合镀层的腐蚀电位Ecorr和腐蚀电流密度Icorr Table 2 Corrosion potential Ecorrand corrosion current density

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《SiC纳米颗粒对脉冲电沉积Ni-SiC复合镀层性能的影响》

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图5为Ni-Si C复合镀层在质量分数为3.5%的Na Cl溶液中的极化曲线对比图。镀层在腐蚀介质中的腐蚀电位Ecorr和腐蚀电流密度Icorr列于表2。由图5可知，Ni-Si C复合镀层在质量分数为3.5%的Na Cl溶液中的极化曲线形状相似，都没有钝化区域。由表2可知，当Si C纳米颗粒的质量浓度为3 g/L时，Ecorr正向移动达到最大值，为-0.441 V，Icorr达到最小值，为1.221×10-5A/cm2，说明Ni-Si C复合镀层耐腐蚀性能较好。这是因为，镀层中Si C阻碍镍晶粒生长，使其细化，增强组织结构的致密性，有效减少Cl-与基体金属的接触面积，从而提高镀层的耐腐蚀性[12]。当镀液中Si C的质量浓度为5 g/L时，Ecorr负移，Icorr增大，Ni-Si C复合镀层的耐腐蚀性能下降。其原因是镀层表面结构疏松，Cl-易渗入镀层中，镀层中的镍与Si C形成微观腐蚀电池，加快了金属腐蚀的速度，故镀层的耐腐蚀性能下降。