《表4 同一时期不同处理间马铃薯茎叶全硅积累量的变化》
注:同列不同小写字母表示不同处理间差异显著(P<0.05)Note:Different lowercases in the same column stand for sigificant differences between different treatments at 0.05 level
由表4可知,齐苗后51 d,各施肥处理与空白处理CK有显著差异,各施肥处理之间无显著差异。齐苗后63 d,各处理茎叶全硅积累量表现为OM1>OM2>OM4>OM3>OM5>CF>CK,处理OM1、OM2和OM4与其他处理的茎叶硅积累量有差异,且与CF和CK差异显著。
图表编号 | XD00185360400 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.11.08 |
作者 | 代啟贵、张帆、曹先维、张新明 |
绘制单位 | 华南农业大学资源环境学院、华南农业大学资源环境学院、华南农业大学园艺学院、华南农业大学资源环境学院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |