《表2 不同等离子处理时间下未硅烷化PMMA接触角恢复情况》

《表2 不同等离子处理时间下未硅烷化PMMA接触角恢复情况》   提示:宽带有限、当前游客访问压缩模式
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《基于PDMS-PMMA材料的微流控芯片等离子体键合工艺研究》


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经等离子处理后的PMMA表面上存在大量的羟基,更有利于硅烷化反应组装上偶联剂中的硅氨基。对未硅烷化PMMA的不同时间处理的接触角恢复情况进行研究,结果如表2所示,随着放置时间的延长,接触角呈逐渐增大趋势;等离子处理时间越长,其接触角初始值越小,相同静止时间内接触角恢复值也较小。试验表明,在对未硅烷化PMMA进行等离子处理时,应适当增加处理时间,减小放置时间。