《表2 不同等离子处理时间下未硅烷化PMMA接触角恢复情况》
提示:宽带有限、当前游客访问压缩模式
本系列图表出处文件名:随高清版一同展现
《基于PDMS-PMMA材料的微流控芯片等离子体键合工艺研究》
经等离子处理后的PMMA表面上存在大量的羟基,更有利于硅烷化反应组装上偶联剂中的硅氨基。对未硅烷化PMMA的不同时间处理的接触角恢复情况进行研究,结果如表2所示,随着放置时间的延长,接触角呈逐渐增大趋势;等离子处理时间越长,其接触角初始值越小,相同静止时间内接触角恢复值也较小。试验表明,在对未硅烷化PMMA进行等离子处理时,应适当增加处理时间,减小放置时间。
图表编号 | XD00170482300 严禁用于非法目的 |
---|---|
绘制时间 | 2020.04.20 |
作者 | 宋春辉、胡志刚、杜喆、祖向阳、宋克纳 |
绘制单位 | 河南科技大学医学技术与工程学院、河南科技大学医学技术与工程学院、河南省智能康复医疗机器人工程研究中心、河南科技大学医学技术与工程学院、河南科技大学医学技术与工程学院、河南科技大学医学技术与工程学院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |