《表2 4种不同电磁屏蔽条件》

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《7nm工艺下片上电感耦合情况研究》

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我们在Peak View平台上进行了7 nm工艺片上电感的设计，在Virtuoso中画出了ground shielding与guardring的版图，并将三者进行了组合后再次在Peak View平台上进行了PBM（Physics-based Model）的电磁仿真，根据仿真结果计算片上电感之间的耦合系数。本节将对4种不同条件下片上电感之间的耦合关系进行讨论，4种条件见表2。