《表2 加入不同催化剂量的降解率》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《碳化硅纳米线光催化分解甲基橙性能研究》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

按实验方法中光催化部分，改变光催化剂碳化硅的加入量，分别为0mg、120mg、150mg、和180mg，总的光照时间为3h。通过表2数据可得图4，表明了碳化硅纳米线的加入量与甲基橙降解率的关系。由数据可得，溶液在无碳化硅纳米线的条件下降解率极小基本不变，而在加入碳化硅纳米线后，吸光度减少，说明起到降解作用。这是由于Si C中的电子被光激发，使电子从价带到导带，而在导带上生成带负电的光生电子，在价带中会产生对应的带正电的光生空穴，形成“电子-空穴”对[18]。光生电子有还原性，而空穴有氧化性，他们与溶液中的氧和氢离子相互作用生成超氧自由基和羟基自由基。具有强氧化能力的羟基自由基，将有机物无机化，从而使甲基橙溶液降解。随着催化剂碳化硅纳米线加入量的增多，甲基橙溶液的降解率先增大后减小。这是因为对于一定质量浓度的甲基橙溶液，所需光催化剂的活性中心数量是一定的。当催化剂的量较低时，活化中心数量较少，甲基橙的降解反应较慢；当量过多时，悬浮液体系的透光性变差，影响紫外光的充分利用，导致降解率下降[19]。实验表明当碳化硅的加入量为150mg时降解率最大，可达到37.31%。因此在本实验中最适宜的用量为150mg。