《表5 不同胁迫时间段差异材料根和茎叶组织间的H2O2含量及多重比较》

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《ZmOPR5参与玉米耐镉性生理机制的初步研究》

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（μg/g·FW)

植物细胞在遭受外界环境胁迫时会发生脂质过氧化并产生大量的活性氧。本研究对Cd胁迫处理后根系和茎叶中H2O2和O2-含量进行了分析。从图5A可以看出，无论根系还是茎叶，在遭受Cd胁迫后均会产生一个活性氧爆发的过程。随着胁迫时间的延长，植物体内H2O2和O2-含量呈现出明显的上升趋势。H2O2在胁迫12 h后有一个明显的爆发过程，并于72 h后出现峰值，随后表现出稳定而缓慢下降。相同材料的根、茎叶组织和处理时间下的H2O2含量差异比较可知（表5），耐性自交系B73根系在处理前期（0～48 h）和处理后期（48～120 h)H2O2含量差异达极显著水平。耐性自交系B73茎叶中H2O2含量除个别处理时间点外，均表现出极显著差异。但耐性材料B73在大多数处理时间下根系与茎叶中H2O2含量差异均不显著；对于Cd敏感自交系Mo17，无论根系还是茎叶中H2O2含量在绝大多数处理时间下均呈现极显著差异，在处理36 h后，茎叶中H2O2含量明显高于根系中H2O2含量，且差异达极显著水平。在耐性自交系B73和敏感型自交系Mo17中，Cd胁迫处理后茎叶中H2O2含量均明显高于根系，尤其是Mo17茎叶，其中H2O2含量最高，而耐性自交系B73根系中H2O2含量最低。