《表1 二氧化硅表面羟基的总数量随温度关系》
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无定形二氧化硅表面羟基数量随着温度的升高而不断降低，结果见表1。
| 图表编号 | XD00161143600 严禁用于非法目的 |
|---|---|
| 绘制时间 | 2020.04.29 |
| 作者 | 刘文霞、王金道、许有伟 |
| 绘制单位 | 中国石油兰州化工研究中心、中国石油兰州石化公司、中国石油兰州石化公司 |
| 更多格式 | 高清、无水印（增值服务） |
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