《表2 印迹吸附热力学参数》

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《"荷电下的4,4'-二氨基二苯醚印迹吸附"》

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表2为273.15～313.15 K内不同吸附温度对应的热力学参数．由表2可知，在273.15～313.15 K内，Kd随吸附温度的升高而增大，说明升温有助于吸附反应；而ΔG<0，说明此吸附反应是自发过程；ΔH>0，表明吸附反应是吸热过程．实验中4，4'-ODL-MIP对4，4'-ODL的吸附焓变<40 k J/mol，说明此吸附过程主要是物理吸附；ΔS>0，表明此吸附过程无序度增大．