《表2 不同纳米SiO2添加量时所制备涂层的发射率和光泽度》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《超疏水低红外发射率复合涂层的制备及性能表征》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

图4为不同纳米SiO2添加量时所制备涂层的水接触角，可见在涂层中添加纳米SiO2对涂层的水接触角具有明显影响。当纳米SiO2质量分数为2%时，涂层的水接触角便可从原先的109.5°上升为124°；继续增加SiO2添加量，涂层的水接触角仍然会有所上升，当纳米SiO2质量分数增大到8%时，涂层的水接触角可达到130°，并趋于稳定。其原因主要在于，涂层中纳米SiO2添加量的增加会使涂层表面的粗糙度明显增大，而涂层本身又具有一定的疏水特性，因此纳米SiO2适当增大会加大水珠与涂层间的气液界面，从而使涂层表现为更突出的疏水特性[16]。上述结果表明，在树脂基低红外发射率涂层制备过程中添加纳米SiO2可明显升高涂层的水接触角，但要实现超疏水特性还需引入其他技术手段。