《表5 NbMoCrTiAl-1Si-x B(x=0、1)合金经1173 K氧化48 h后的表层氧化膜能谱分析》
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《新型NbMoCrTiAl-1Si-xB(x=0、1)难熔高熵合金的微观组织及高温氧化行为研究》
图6为NbMoCrTiAl-1Si-x B(x=0、1)合金在1173 K下氧化48 h后的表面氧化膜XRD图谱,表5则为该合金表层氧化物的能谱分析结果。从图6可以看出,合金表面形成了由大量金红石结构(Rutile)和少量刚玉结构(Corundum)所组成的氧化膜,这与NbMoCrTiAl-x Si(x=0、1)合金经1273 K氧化48 h后的研究结果相类似[23]。由于氧化膜厚度较薄的原因,在NbMoCrTiAl-1Si-1B合金氧化膜的XRD图谱中还出现了基体BCC相的衍射峰,这也表明B元素的添加明显改善了合金的高温氧化抗力。从表5看出,NbMoCrTiAl-1Si合金DC区的氧化膜中,Al、Ti、Cr、Nb等元素含量较高,而ID区团簇状氧化物中则主要富含Ti元素;NbMoCrTiAl-1Si-1B合金整个氧化膜表面均富含Al、Ti、Cr、Nb等元素,且Al元素含量明显高于其他元素,这表明B元素能促进合金表面富Al氧化膜的形成。
图表编号 | XD00145568600 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.06.20 |
作者 | 要玉宏、梁霄羽、金耀华、王正品、刘江南、南條弘 |
绘制单位 | 西安工业大学陕西省光电功能与器件重点实验室、西安工业大学陕西省光电功能与器件重点实验室、西安工业大学陕西省光电功能与器件重点实验室、西安工业大学陕西省光电功能与器件重点实验室、西安工业大学陕西省光电功能与器件重点实验室、日本国立产业技术综合研究所东北中心 |
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