《表2 经方专利在中国和日本的专利技术整体构成情况》
按照技术分解表对所统计的中国和日本的经方专利申请进行技术层面的归类,得到技术构成分析表,用于直观、系统地展示中国和日本的经方专利申请技术构成情况,结果如表2所示。
图表编号 | XD00143330900 严禁用于非法目的 |
---|---|
绘制时间 | 2020.03.15 |
作者 | 辛雪、黄大智 |
绘制单位 | 国家知识产权局专利局专利审查协作四川中心、国家知识产权局专利局专利审查协作四川中心 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |
按照技术分解表对所统计的中国和日本的经方专利申请进行技术层面的归类,得到技术构成分析表,用于直观、系统地展示中国和日本的经方专利申请技术构成情况,结果如表2所示。
图表编号 | XD00143330900 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.03.15 |
作者 | 辛雪、黄大智 |
绘制单位 | 国家知识产权局专利局专利审查协作四川中心、国家知识产权局专利局专利审查协作四川中心 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |