《表1 应力层测量结果Tab.1 Measurements of stress layer》
μm
R2=0.975,越接近于1,拟合性越好,说明回归方程的拟合性非常好。图1为强化条件对应力层深度影响的实验与拟合3D图,两者重合性很好,所以本回归方程不仅能用来描述样品玻璃表面应力层深度随化学强化条件的变化情况,而且因为大部分高铝硅酸盐超薄盖板玻璃的组分都比较接近,本回归方程还能用来预测其他高铝硅酸盐玻璃的表面应力层深度随化学强化条件的变化情况,指导高铝硅酸盐玻璃生产厂家在研制新产品时的化学强化条件设定。
图表编号 | XD0014160400 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.01.31 |
作者 | 谢君樑、和阿雷、赵高凌、汪建勋、韩高荣 |
绘制单位 | 浙江大学材料科学与工程学院、硅材料国家重点实验室、浙江大学材料科学与工程学院、硅材料国家重点实验室、浙江大学材料科学与工程学院、硅材料国家重点实验室、浙江大学材料科学与工程学院、硅材料国家重点实验室、浙江大学材料科学与工程学院、硅材料国家重点实验室 |
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