《表2 r为50μm的样品随时间的腐蚀速率》

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《基于SiO_2掩膜层的硅基微半球谐振子模具加工工艺》

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本文以r为50μm的样品作为实例展示半球谐振子模具的腐蚀形貌随时间的演化。其扫描电子显微镜照片以及相关测量情况如图6所示。根据图4测量所得的各时间点Rh和RX，通过式（6）和式（7）可知该样品各时间段的vh以及vX，如表2所示。从表2中可以看出，r为50μm的样品在0～5 min的vh和vX均明显大于5～10 min和10～15 min的vh和vX；而且5～10 min和10～15 min的vh和vX相近。证明该样品符合上文中所获得的vh和vX随反应时间的变化规律。