《表2 200℃退火前后的比接触电阻率（单位：Ω·cm2)》

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《p型GaN上Pd/NiO/Al/Ni反射电极欧姆接触的热稳定性研究》

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图3为各组样品在200℃氮气环境退火5min后测试的I-V特性曲线。由图1可知，0#样品Pd/Al/Ni在退火前测试的I-V特性曲线为直线，说明电极与p-GaN之间形成了良好的欧姆接触；但是经200℃退火5min后，测得的I-V特性曲线由直线变为曲线，说明接触退化严重，变为非欧姆接触；而其余组样品在200℃退火前后都能保持良好的欧姆接触，这说明NiO层对样品的热稳定性有显著影响。各组样品在200℃退火前后的比接触电阻率如表2所示。由0#和2#样品的I-V特性测试结果可以看出，NiO层不仅能保护接触不发生退化，而且随着退火温度的升高，还可以保持其低比接触电阻率。相反，随着退火温度的升高，没有NiO层的接触会严重退化。加入NiO阻挡层后样品的热稳定性明显提高，这可能是由于NiO在热退火过程中能有效阻挡上层金属对p-GaN的渗入，防止其破坏接触。