《表2 合成DF1、DF2、DF3物料添加量》

《表2 合成DF1、DF2、DF3物料添加量》   提示:宽带有限、当前游客访问压缩模式
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《短氟碳链含氟硅烷偶联剂及其疏水涂层的构建》


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将50 mL单口烧瓶密闭,用氮气保护体系。将16.50 mmol(3.861 g)VTMS(25℃下密度为0.970 g/mL)、10 mL溶剂甲苯和Pt量为Si—H物质的量0.05‰的Karstedt催化剂分别用注射器转移入单口烧瓶中,于25℃下反应1 h使催化剂活化,然后用注射器将Si—H与C=C物质的量比为1.0∶1.2的MDCS(25℃下密度为1.105 g/mL)注入单口烧瓶中,继续反应24 h,得到大封端剂。阴离子开环及封端过程参照直链型聚三氟丙基甲基硅氧烷偶联剂的合成方法。将聚合度为3的支链型含氟硅烷偶联剂命名为DF1。聚合度为6与聚合度为9的支链型含氟硅烷偶联剂参照DF1的方法合成,只需改变正丁基锂-正己烷溶液、MDCS和VTMS的用量,分别命名为DF2和DF3。合成反应物料添加量如表2所示。