《表1 不同外加电压以及氟离子浓度下TNAs粗糙度》

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《TiO_2纳米管阵列粗糙度调控及其与蛋白相互作用》

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采用AFM对TNAs表面形貌及粗糙度进行表征。图3是0.4%（质量）氟离子浓度下的四个外加电压（15、25、35、45 V）下的TNAs的2D以及表面高度图。从2D图可以发现，随着阳极氧化电压的增加，TNAs的管径增加。另外，随着氧化电压的增加，TNAs的粗糙度增加，通过均方根（root-mean-square，RMS）处理得到15、25、35、45 V电压下制备得到的TNAs粗糙度分别约为23.2、47.5、61.4、85.2 nm（表1）。同时，发现表面高度图的起伏程度也随着电压的增大而增大，波谷深度从约90 nm到350 nm，即裂纹导致的起伏越来越明显，这也是粗糙度逐渐增加的原因。