《表1 所选实验参数：用于层间耦合的绝热光学倒锥工艺研究》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《用于层间耦合的绝热光学倒锥工艺研究》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

在光子学中平滑的侧壁通常被用于低损耗波导中．在光刻工艺后，光刻胶侧壁的不平滑会对下一步的刻蚀工艺带来不利影响[17-19]．通过短时间热回流处理的方法，可以实现平滑的侧壁．光刻胶回流处理是针对粘弹性材料的粘度随时间-温度而改变的特性所提出的处理方法，该过程可理解为光刻胶的蠕变过程，蠕变由能量的不平衡而驱动．重力和光刻胶表面张力，导致了尖角、不平整的产生，热回流处理打破了光刻胶内部最初的能量平衡状态，迫使其发生蠕动来消除尖角，使其表面变得更加圆润从而达到降低表面粗糙度的作用．在经过回流处理后，光刻胶不均匀处将会变得平整．但过度的回流会导致光刻胶结构变形，因此设置合理的回流温度和时间极为重要．通过设计不同回流温度和时间的4组实验，对回流时间与温度对光刻胶的不平整以及分层的影响进行研究，所设计4组实验参数如表1.