《表2 专利密集区IPC分析一览表》

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《从专利申请大数据看半导体陶瓷创新态势》

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通过对半导体陶瓷进行专利密集区———国际专利分类号IPC分析，可以明确全球专利活动最为活跃的技术区域；了解创新的热点领域；了解半导体陶瓷行业专利活动领军企业所关注的技术领域和发展动态，作为创新主体投资技术创新立项的决策依据之一。表2是半导体陶瓷专利密集区分析一览表，从表中可以看出半导体陶瓷专利密集区在H01L21、H01L23、H01L33、H01L25、H01L29、H0L27、H05K1、H05K3、H01G4、H01C7这些技术领域。