《表1 CrN、Cr和304不锈钢基体的部分相近峰位置》

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《磁控溅射工艺对CrN薄膜及其腐蚀行为的影响》

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结合图4所示的Cr-N二元相图[12]可知，当Cr过量时，应有利于Cr2N的生成，薄膜的物相应为β-Cr2N+CrN、β-Cr2N、或α-Cr+β-Cr2N，但薄膜的主相却为CrN+Cr，甚至检测不到Cr2N峰的存在，这正是由于溅射功率过高，大量的Cr被高能Ar离子溅射出还未完全与N2发生反应即已沉积到基体表面。故接下来将降低溅射功率，以利于生成更多的CrN相。