《表1 UF-RO处理系统设计进出水水质》

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《UF-RO工艺回用处理半导体废水》

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国内某半导体厂，晶背研磨废水产生量为150～160 m3/d，反洗废水产生量为500～700 m3/d，主要污染物为悬浮物，UF-RO处理系统设计进水和出水主要水质指标见表1。