《辐射受激化学热处理》求取 ⇩

前言页1

第一章 实现辐射和非辐射受激化学热处理的方法1

1.1 在γ辐射场中处理2

1.2 用低能量离子处理3

1.3 用电脉冲放电处理14

1.4 工件在交变载荷条件下处理16

第二章 固体在辐射和非辐射作用下缺陷的形成23

2.1 辐射作用下形成的缺陷23

2.2 非辐射作用下缺陷的形成29

第三章 用低能量离子处理时材料的受损性39

3.1 组织缺陷的形成39

3.2 起泡效应46

3.3 膨胀·气泡形成52

第四章 材料在非辐射作用时的质量迁移55

4.1 关于辐射受激扩散的基本概念56

4.2 金属与电离的气体介质作用时的质量迁移60

4.3 关导体与电离的气体介质相互作用时的质量迁移73

4.4 金属、半导体和金属、化合物相互作用时的质量迁移88

4.5 金属的渗透率92

第五章 在离子轰击条件下涂层和薄膜的涂覆100

5.1 固体表面的微观过程100

5.2 钨涂层的涂覆108

5.3 非金属涂层的涂覆112

第六章 非辐射作用下的金属蠕变115

结束语120

参考文献122