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序言1

第一章 电子能谱仪概述1

1.1 各种电子能谱仪简介1

1.1.1 光电子能谱仪1

1.1.2 俄歇电子能谱仪1

1.1.3 其它电子能谱仪2

1.2 电子能谱仪的发展概况5

1.2.1 电子能谱仪的主要性能指标5

1.2.2 电子能谱仪发展趋势8

1.2.3 商品电子能谱仪器简介9

第二章 光电子能谱的基本概念15

2.1 光电过程15

2.1.1 光致电离及原子去激过程15

2.1.2 光电子谱线的命名16

2.1.3 光致电离截面17

2.1.4 电子的平均自由程18

§2.2 光电子能量测量原理18

2.2.1 X射线光电子能谱的能量关系19

2.2.2 紫外光电子能谱的能量关系21

2.3 X射线光电子能谱的标识21

2.3.1 光电子峰及其强度21

2.3.2 俄歇电子峰及其能量24

2.3.3 X射线伴线峰及其能量25

2.3.4 能量损失区26

§2.4 X射线光电子能谱多峰结构产生机理27

2.4.1 电子轨道的多重分裂27

2.4.2 电子的振起和振离效应28

第三章 光电子能谱的装置29

3.1 光电子能谱仪的工作原理29

3.2 仪器的主要结构及功能31

3.2.1 激发源31

3.2.2 样品室34

3.2.3 电子能量分析系统35

3.2.4 探测和测量系统39

3.2.5 真空系统40

4.1.1 固体样品的制样技术42

4.1 试样准备42

第四章 光电子能谱测量技术42

4.1.2 绝缘体样品表面荷电效应及其校正43

4.2 XPS谱测试条件的选择44

4.2.1 能量定标44

4.2.2 分析器扫描方式的选择46

4.2.3 其它一些实验参数的选择47

4.3.1 电子结合能计算49

4.3.2 去卷积与曲线拟合法49

4.3 XPS图谱处理49

4.4 实验操作注意事项51

4.4.1 电子出射角与电子逸出深度的关系51

4.4.2 样品的化学变化52

4.5 紫外光电子能谱测定法53

4.5.1 绝热电离电位与垂直电离电位的测定53

4.5.2 谱的校正55

4.5.3 角分布测定57

5.1.1 元素定性与定量分析59

5.1 X射线光电子能谱59

第五章 光电子能谱的分析方法59

5.1.2 化学位移与状态分析61

5.1.3 X射线光电子能谱的多峰结构74

5.1.4 X射线光电子能谱分析法的特点77

5.2 紫外光电子能谱79

5.2.1 紫外光电子能谱的解释79

5.2.2 定性与定量分析80

6.1.1 薄膜或涂层的成分分析81

6.1 成分分析81

第六章 光电子能谱的应用81

6.1.2 组成比测定83

6.1.3 深度组分分布87

6.2 元素的化学状态分析88

6.2.1 半导体器件工艺及性能研究88

6.2.2 多相催化研究91

6.2.3 络合物原子状态分析93

6.2.4 生物化学与环境化学研究95

6.3.1 同分异构体的鉴定97

6.3 分子结构的鉴定97

6.3.2 取代效应的研究100

6.3.3 络合物结构的确定103

6.4 高聚物表面化学106

6.4.1 表面处理层的鉴定106

6.4.2 表面氟化108

6.4.3 表面氧化与光解反应112

6.4.4 接触界面的物质转移112

6.4.5 聚合物基体上薄层厚度的测量114

6.5.1 分子轨道键合特性的研究116

6.5 紫外光电子能谱的应用116

6.5.2 化合物的定性鉴定119

6.5.3 固体的价带光电子能谱121

第七章 俄歇电子能谱的基本概念123

7.1 俄歇跃迁过程123

7.1.1 二次电子能量分布123

7.1.2 俄歇电子的产生与命名124

7.1.3 等离子能量损失电子峰125

7.2 俄歇电子的能量126

7.3 俄歇电子的强度127

7.3.1 电离截面127

7.3.2 俄歇跃迁几率与产额128

7.3.3 电子的平均自由程129

7.3.4 俄歇信号电子强度130

第八章 俄歇电子能谱的装置和测量技术132

8.1 俄歇电子能谱仪的工作原理132

8.2.1 激发源133

8.2 仪器的主要结构及功能133

8.2.2 样品予处理室与样品分析室134

8.2.3 能量分析器134

8.2.4 锁相放大器134

8.2.5 真空系统及数据处理系统135

8.3 俄歇电子能谱的测量技术136

8.3.1 样品的制备136

8.3.2 俄歇电子能谱测定法136

8.3.3 俄歇电子显微图象分析法136

8.3.4 深度剖面分析技术137

第九章 俄歇电子能谱的分析与应用140

9.1 俄歇电子能谱的分析方法140

9.1.1 元素定性140

9.1.2 分析灵敏度与分辨本领140

9.1.3 定量分析141

9.1.4 化学位移与状态分析144

A 俄歇电子能谱的化学位移144

B AES与XPS的化学位移比较145

9.1.5 几种AES联用仪的分析方法147

9.2 俄歇电子能谱的应用150

9.2.1 元素成分分析150

A 冶金材料150

B 焊接工艺151

C 电子工业材料153

D 界面化学154

E 催化研究156

A 俄歇电子能谱化学态分析157

9.2.2 结合状态的研究157

B AES与XPS结合的元素与化学状态分析158

第十章 电子能谱仪与某些有关的谱仪分析法的比较162

10.1 XPS与X射线光谱162

10.2 UPS与紫外、可见吸收光谱163

10.3 核磁共振(NMR)波谱的化学位移163

10.4 穆斯鲍尔能谱的化学位移164

10.5 其它一些表面分析仪165

附录Ⅰ 国内引进电子能谱仪一览表169

附录169

附录Ⅱ 元素的光电子峰的相对强度171

附录Ⅲ 元素的电子结合能表178

附录Ⅳ 原子的X射线光电子相对灵敏度因子182

附录Ⅴ 结合能标度的光电子线和俄歇电子线的位置186

附录Ⅵ 主要俄歇电子能量图解189

附录Ⅶ 元素的俄歇信号电子相对灵敏度图解190

附录Ⅷ 俄歇电子能量表193

参考文献200

图解的勘误表207

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