《真空镀膜设备》高清PDF
作者:张以忱编著
出版:北京:冶金工业出版社
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出版时间:2009.08 (求助前请核对清楚)
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本书详细介绍了真空镀膜设备的设计方法与镀膜设备各机构元件的设计计算、设计参数的选择,其中重点、系统地介绍了磁控溅射靶的设计计算和溅射镀膜的膜厚均匀性设计。全书共分13章,主要讲解真空镀膜室结构、镀膜室工件架、真空镀膜机的加热与测温装置、溅射镀膜的膜厚均匀性等方面的设计与计算。
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