《表6 海水淡化水处理药剂中干扰校正方程》
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《海水淡化水处理药剂中杂质元素的电感耦合等离子体质谱法》
注:Cu—铜;Cd—镉;Ba—钡;M—质量数。
ICP-MS中的干扰主要可分为两大类:质谱干扰和非质谱干扰。其中质谱干扰包括同质异位素重叠干扰、多原子或加合物离子干扰、难熔氧化物离子干扰及双电荷离子干扰。通过优化仪器参数,调节合适的RF功率、雾化气流量来控制仪器的氧化物产率和双电荷产率。海水淡化水处理药剂样品基体较复杂,处理液中含有的氯离子以及载气中氩(Ar)对部分元素测定造成干扰,如52Cr会受到40Ar12C干扰,75As会受到40Ar35Cl干扰,80Se会受到40Ar40Ar干扰等,在测定时需要对选用恰当流速的NH3作为反应气降低40Ar12C、40Ar35Cl及40Ar40Ar的干扰进行校正。针对Cu和Ba等元素测试,通过输入干扰校正方程可有效地减少干扰,部分元素的干扰校正方程见表6。非质谱干扰主要来源于样品的基体及仪器测定过程中产生的漂移,此类干扰会引起信号的抑制或增强,本次实验选用Rh作为内标元素,采用三通阀连接内标液管与样品进样管按照1∶1的比例在线加入内标溶液,对基体效应、仪器的漂移进行补偿和校正,通过对内标回收率的监测来保证数据的准确。
图表编号 | XD0064382000 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.04.15 |
作者 | 王国英、陈曦、林少彬、路凯 |
绘制单位 | 中国疾病预防控制中心、中国疾病预防控制中心、中国疾病预防控制中心、中国疾病预防控制中心 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |