《表1 不同条件下模拟的蚀坑深度 (T=100)》

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《基于元胞自动机的飞机蒙皮表面点蚀过程模拟》

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由表1看出:时间步长为100时，蚀坑深度与单、双蚀坑等表面物理因素并无绝对关系，考虑实际蚀坑深度与Pd、Pp、c相关。点蚀的元胞自动机模型是根据电化学反应原则及扩散机理所延伸出的局部规则建立的，而扩散、化学反应均是随机的。理论上点蚀坑应接近圆形，但实际上腐蚀有着不确定性。为详细研究蚀坑深度与PP、Pd、c的联系，提出了蚀坑的等效深度Rd、模拟深度d、对比深度βd等概念。等效深度Rd表示蚀坑为正球形时的理论深度，即Rd=2×R，其与腐蚀损伤数的关系如式（1）所示；模拟深度d表示在元胞自动机模型中电解质溶液实际到达的深度；对比深度βd表示模拟深度与等效深度的比，见式（2）。