《表5 不同遮阴处理下玻璃苣叶片比活性参数的变化》

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《遮阴对玻璃苣光合特性的影响》

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由表5可知，随着遮阴程度的增加，玻璃苣PSⅡ反应中心活性参数ABS/RC、TRo/RC呈现上升的趋势，于T3处理下达到最大值，此时，T3处理分别比CK处理提高了39.57%、30.00%，T2处理则提高了27.39%、22.22%，均与CK处理达到极显著水平（P<0.01），而T1处理则显著提高了7.83%、10.00%；玻璃苣的ETo/RC则随着遮阴程度的增加呈现先上升后下降的趋势，于T2处理下达到最大值，T1、T2、T3处理与CK处理相比分别提高了8.62%、16.38%、12.93%，而T2处理则比T1、T2处理提高了6.67%、2.96%，差异均不显著（P>0.05）。对DIo/RC来说，其值随着遮阴度的增加，呈现先上升后下降的趋势，于T1处理下达到最大值，此时，CK处理是T1处理的1.02倍，T2、T3处理是CK处理的1.46、1.74倍，T2、T3处理则分别是T1处理的1.49、1，78倍，T2、T3处理均与CK、T1处理差异显著（P<0.05），而T1与CK处理无显著性差异。